当前位置 > 新闻中心 > 产业观察

美光计划投资约300亿元在日本新建DRAM厂

来源:大半导体产业网    2024-05-29

这座新厂房将于2026年初动工,并安装极紫外光刻(EUV)设备,消息称最快2027年底便可投入营运。

据日媒报道,美光科技计划投入6000亿-8000亿日圆(约合人民币277-369亿元)在日本广岛县兴建新厂,用于生产DRAM芯片。这座新厂房将于2026年初动工,并安装极紫外光刻(EUV)设备。消息称最快2027年底便可投入营运。

报道称,此前,日本政府已批准多达1920亿日圆补贴,支持美光在广岛建厂并生产新一代芯片。去年,日本经济产业省曾表示,将利用这笔经费协助美光科技生产芯片,这些芯片将是推动生成式AI、数据中心和自动驾驶技术发展的关键。


     Copy right©2007:All Reserved. 西安集成电路设计专业孵化器有限公司 
办公地址:陕西省西安市高新技术产业开发区科技二路77号光电园二层北 办公电话:029-88328230 传真:029-88316024
                     陕ICP备 19002690号 陕公安网备 61019002000194号